發(fā)布時間: 2017-04-25 點(diǎn)擊次數(shù): 1650次
微波反應(yīng)器可廣泛用于貴重材料包括GaN,SiC等的表面沉積。UHV結(jié)構(gòu),易于安裝到現(xiàn)有的MBE系統(tǒng)上。穩(wěn)定可靠的真空腔。低氣壓、高密度及低能量的離子源。
1.微波功率隨溫度自動反饋控制,非脈沖微波連續(xù)加熱. 自動調(diào)整和控制反應(yīng)過程,達(dá)到準(zhǔn)確的溫度和反應(yīng)過程控制效果,確保合成反應(yīng)的均勻性和一致性。比傳統(tǒng)脈沖式加熱,微波作用時間更長,產(chǎn)率更高。
2.高頻率和高精度的紅外溫度傳感器,監(jiān)測反應(yīng)容器內(nèi)反應(yīng)物質(zhì)發(fā)熱產(chǎn)生的紅外光線來測量和控制反應(yīng)容器內(nèi)的溫度變化過程,隨時檢測到反應(yīng)容器內(nèi)的溫度數(shù)值,溫度控制范圍:0-250℃(根據(jù)反應(yīng)要求可選裝室溫~500℃或室溫~900℃),精度±1℃,無滯后和延遲效應(yīng)。比鉑電阻測溫更安全,更靈敏,更準(zhǔn)確,操作更簡便。
3.同時配備電磁和機(jī)械攪拌裝置,用戶可根據(jù)反應(yīng)物質(zhì)情況自行選擇攪拌方式,攪拌速度連續(xù)可調(diào)并實(shí)時顯示。適用于各種粘稠度的液體和固體反應(yīng)物。
4.內(nèi)置10套反應(yīng)方案,任意調(diào)用。用戶可自行編輯、存儲、修改和刪除各套反應(yīng)方案及各項(xiàng)反應(yīng)控制參數(shù)(包括工步,溫度,時間和攪拌速度等)
5.配備爐腔內(nèi)攝像裝置,并通過爐腔外的TFT彩色液晶(或CRT)顯示器,隨時觀察或錄像爐腔內(nèi)反應(yīng)過程,掌握實(shí)時的反應(yīng)情況。
6.微波爐腔上的任何開口都對人體安全,整機(jī)安全性能通過國家質(zhì)檢部門安全認(rèn)證。
7.高強(qiáng)度的防腐涂層確保爐腔持久抵御各種有機(jī)溶劑和酸霧蒸汽的侵蝕,并配備大容量排風(fēng)裝置。